Mikrolithographische Verfahren auf der Basis von SU-8-Dicklack zur Realisierung mikrooptischer Komponenten

dc.contributor.advisor	Neyer, Andreas	de
dc.contributor.author	Kang, Won-Jong
dc.contributor.referee	Schumacher, Klaus	de
dc.date.accepted	2005-12-16
dc.date.accessioned	2005-12-21T14:05:39Z
dc.date.available	2005-12-21T14:05:39Z
dc.date.issued	2005-12-21T14:05:39Z
dc.description.abstract	In letzter Zeit gewinnt die optische Verbindungstechnik auf Basis von polymeren Lichtwellenleitern an großer Bedeutung in elektrisch-optischen Leiterplatten. Hierbei spielt die Ein- und Auskopplung der Lichtsignale mittels eines Koppelelementes wie z.B. eines 45°- Spiegels für eine optische Übertragungsstrecke in der Leiterplatte eine wichtige Rolle. Aus diesem Grund werden in dieser Arbeit mikrolithographische Verfahren zur Herstellung von optischen 3D-Koppelelementen vorgestellt, welche zur einfachen und kostengünstigen Massenproduktion führen können.	de
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/2003/21803
dc.identifier.uri	http://dx.doi.org/10.17877/DE290R-15910
dc.identifier.urn	urn:nbn:de:hbz:290-2003/21803-6
dc.language.iso	de
dc.subject	Mikrolithographie	de
dc.subject	SU-8	de
dc.subject	Mikrooptik	de
dc.subject	Dickschicht-Mikrolithographie	de
dc.subject	Koppelelement	de
dc.subject.ddc	620
dc.title	Mikrolithographische Verfahren auf der Basis von SU-8-Dicklack zur Realisierung mikrooptischer Komponenten	de
dc.type	Text	de
dc.type.publicationtype	doctoralThesis
dcterms.accessRights	open access

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