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dc.contributor.authorTillmann, Wolfgang-
dc.contributor.authorStangier, Dominic-
dc.contributor.authorGrisales, Diego-
dc.date.accessioned2021-05-21T11:39:59Z-
dc.date.available2021-05-21T11:39:59Z-
dc.date.issued2020-06-18-
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/2003/40187-
dc.identifier.urihttp://dx.doi.org/10.17877/DE290R-22059-
dc.description.abstractHochenergetische Plasmen stellen nach aktuellen Erkenntnissen ein vielversprechendes tribologisches Eigenschaftsprofil für nitridische Hartstoffschichten und deren Anwendungen dar. Jedoch resultiert aus der gesteigerten Ionisationsrate ein hohes Niveau an Druckeigenspannungen in TiAlN‐Dünnschichten (σTiAlN ∼ –6000 MPa), welches die Haftung zwischen Substrat und Beschichtung negativ beeinflussen und zu Delamination und Schädigung führen kann. In diesem Zusammenhang belegen die durchgeführten Untersuchungen, dass durch eine hybride Prozessführung, die aus der synchronen Verwendung von Gleichstrom (DC)‐ und Hochleistungs‐Impuls‐Kathodenzerstäubung (HiPIMS) besteht, eine Reduktion des Eigenspannungszustands in der Schicht erfolgen kann. Dies ermöglicht die Vorteile beider Technologien zu vereinen und somit TiAlN‐Dünnschichten für ein erweitertes Einsatzspektrum als tribologische Beschichtung für wärmebehandelte Werkzeugstähle zu qualifizieren.de
dc.language.isodede
dc.relation.ispartofseriesVakuum in Forschung und Praxis;Vol. 32, 2020, Issue 3, Special Issue: Sputtertechnik. S. 26-32-
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/-
dc.subject.ddc620-
dc.subject.ddc670-
dc.titleTiAlN-Beschichtungen mittels hochenergetischer Kathodenzerstaeubungde
dc.title.alternativeeine Studie zur Auswirkung von Eigenspannungen auf die Leistungsfähigkeit von TiAlN‐Dünnschichtsystemende
dc.typeTextde
dc.type.publicationtypearticlede
dc.subject.rswkSputternde
dc.subject.rswkWerkzeugstahlde
dc.subject.rswkTribologiede
dc.subject.rswkBeschichtende
dc.subject.rswkEigenspannungde
dcterms.accessRightsopen access-
eldorado.secondarypublicationtruede
eldorado.secondarypublication.primaryidentifierhttps://doi.org/10.1002/vipr.202000737de
eldorado.secondarypublication.primarycitationVakuum in Forschung und Praxis. Vol. 32, 2020, Issue 3, Special Issue: Sputtertechnik. S. 26-32de
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