Autor(en): | Flüchter, Christian Rolf |
Titel: | Structural analysis of HfO 2 and HfSi 2 ultra-thin films on Si(100) |
Sonstige Titel: | a photoelectron diffraction study |
Sprache (ISO): | en |
Schlagwörter: | Silizium Hafnium Photoelektronenspektroskopie AFM high-k Photoelektronenbeugung |
URI: | http://hdl.handle.net/2003/25779 http://dx.doi.org/10.17877/DE290R-958 |
Erscheinungsdatum: | 2008-08-25T13:46:15Z |
Enthalten in den Sammlungen: | Experimentelle Physik I |
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